26.08.2010 (mhe)
Eine neue Anlage ist seit August 2010 am Fachbereich Chemie vorhanden. Sie gestattet es, chemische Analysen grenzflächen-naher Bereiche von Materialien durchzuführen. Das teilte die Philipps-Universität am Donnerstag (26. August) mit.
Die Anlage wird "TOF-SIMS“ genannt. Dieser Name steht für "time-of-flight secondary ion mass spectrometry“. Der Apparat wurde über einen Großgeräte-Antrag durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) finanziert.
Hauptantragsteller waren die Professoren Dr. Bernhard Roling und Dr. Karl-Michael Weitzel. Die Stärke der TOF-SIMS-Methode liegt in der extrem hohen Nachweisempfindlichkeit für Spurenelemente in einer Materialprobe. Außerdem bietet sie die Möglichkeit, die Konzentration solcher chemischer Komponenten als Funktion des Abstandes von der Oberfläche zu bestimmen. Dies gewährleistet eine so genannte Tiefenprofilanalyse, wobei die Tiefenauflösung im Bereich von ein bis zwei Nanometern liegt.
Derartige Tiefenprofilanalysen sind vor allem im Bereich der Physikalischen Chemie und der Materialwissenschaften von großer Bedeutung. Aber auch in anderen Teilgebieten der Chemie findet sie ihre Anwendung. „Eine geplante Anwendung liegt beispielsweise in der Tiefenprofilanalyse elektrisch vorgepolter ionenleitender Gläser oder in der Tiefenprofilanalyse derartiger Gläser nach Ionenimplantation“, erklärt Weitzel.
pm: Philipps-Universität Marburg
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